產(chǎn)品概述
品牌 | LINSEIS/林賽斯 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領域 | 綜合 |
L75 / High Pressure高溫膨脹儀大大拓展了熱分析的應用范圍。該系統(tǒng)可以在溫度從室溫到1100/1400/1800 ℃,并在該壓力達到100/150 bar的環(huán)境中測量的材料的膨脹(長度的改變)。此設備是目前世界上可用的高壓膨脹儀??蛇x用水蒸氣發(fā)生裝置和多氣體控制系統(tǒng)。
為了測量數(shù)據(jù)和拓寬測量范圍,可以使用QMS和FTIR對逸出的氣體進行分析。耦合后的功能超過單獨部件的總和。用戶通過LINSEIS耦合技術和綜合硬件和軟件,采用不同數(shù)據(jù)庫對數(shù)據(jù)進行分析以得到*的結(jié)果。
L75 / High Pressure高溫膨脹儀技術參數(shù):
型號 | DIL L75 HP / 1 | DIL L75 HP/2 |
溫度范圍* | RT -- 1100°C | RT -- 1400/1800°C |
zui大壓力 | zui大150 bar | zui大100 bar |
真空 | 10E-4 mbar | 10E-4 mbar |
樣品支架 | 熔融石英 < 1100°C | 熔融石英 < 1100°C |
Al2O3 < 1750°C | Al2O3 < 1750°C | |
zui大樣品長度 | 50 mm | 50 mm |
樣品直徑 | 7/12/20 mm | 7/12/20 mm |
可調(diào)樣品壓力 | zui大 1000 mN | zui大 1000 mN |
測量范圍 | 500 / 5000 µm | 500 / 5000 µm |
分辨率 | 0.125 nm | 0.125 nm |
可選裝置 | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) |
氣氛 | 惰性, 氧化性, 還原性, 真空 | 惰性, 氧化性, 還原性, 真空 |
* 取決于不同爐體
* 不適用于石墨加熱爐
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